(独)日本学術振興会 R052 DXプラズマプロセス委員会 第3回研究会
『先端ロジック半導体におけるプラズマ・データサイエンス技術』
| 日 時： | 2023年10月31日(火） |
| 会 場： | 東京 ベルサール八重洲 Room E（https://www.bellesalle.co.jp/shisetsu/tokyo/bs_yaesu/） |
| 趣 旨： | ＜基礎講座・研究会＞
先端ロジックの設計は米国，製造は台湾に大きく偏っており，日本では産学ともに研究開発および製造技術に関してこれらの国々に対して大きく後れを取っている状況が続いてきた。先端ロジック半導体はこれからの情報化社会を支える人工知能だけでなく，自動車や家電製品の中核部品となっており，米中貿易摩擦が激しさを増す中，国家戦略物資との認識が高まってきている。2022年に入り，TSMC熊本工場の新設やRapidus社が創立され，またこれらに対して，日本国政府が補助金を出すことが決定された。このように日本においても先端ロジック半導体への投資機運が官民ともに高まってきていることから，本テーマに関する研究会を開催する。 |
プログラム
| 13:00-13:15 | 総会 |
| 13:15-13:20 | 委員長挨拶・趣旨説明 日本学術振興会R052 DXプラズマプロセス委員会 委員長 金子 俊郎 氏 同副委員長 福水 裕之 氏 |
| 13:20-14:20 | （招待講座）基礎講座 「先端ロジックのデバイス構造や基本プロセスについて」 東京工業大学 教授 若林 整 氏 |
| 14:20-14:30 | 休憩 |
| 14:30-15:10 | （招待講演） 「半導体材料および加工における実験とシミュレーションへのプロセスインフォマティクス適用」 |
| 15:10-15:50 | （招待講演） 「先端ロジック向け微細加工技術」 日立ハイテク 大竹 浩人 氏 |
| 15:50-16:00 | 休憩 |
| 16:00-16:40 | （招待講演） 「半導体製造装置におけるDX活用事例」 東京エレクトロン 魚山 和哉 氏 |
| 16:40-17:00 | 企業紹介 （2社：マツボー、ダイヘン） |